膜結構連接鋁合金硫酸溶液的硬質氧化工藝與參數
游離硫酸濃度：100~150g/L
鋁離子含量：1~5g/L
氧化槽液溫度：（0±2）℃
電流密度：（3.5±0.5）A/dm2
氧化時間：60~120min
槽液攪拌：槽液強循環攪拌
陽極氧化膜厚度：50~100μm
封孔處理：一般可不進行封閉處理，但是當需要進行封閉處理時，不建議使用中溫、中高溫、高溫鎳（無鎳）封閉或者純水沸水封閉。建議使用常溫有鎳或者常溫無鎳封閉，這樣既增強了氧化膜的耐腐蝕性、也不會導致氧化膜耐磨性降低。
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